대면적 또는 미세 표면 재료를 종합적으로 분석하려는 연구원에게 필요한 것은 큰 사이즈부터 나노 크기에 이르기까지 2D와 3D 차원을 모두 포괄할 수 있는 이미징 도구와 분석 도구이다. 정교해진 F/S Laser를 이용하여 큰 단면의 EDS 또는 EBSD분석도 별도의 가공 없이 진행 가능하다. 하나의 설비에서 고해상도 이미지를 얻을 수 있고, Chamber의 오염없이 넓은 영역의 가공을 빠른 시간안에 진행하여 다음 분석을 위한 샘플의 준비를 마칠 수 있다. 또한 두 챔버간 샘플 셔틀이 원활하게 이루어지도록 자동화시스템을 도입하여 높은 반복성과 처리량이 요구되는 공정을 지원 가능하다. 대기 비개방 솔루션을 지원하여 Glove Box와 연계한 분석에도 활용 가능하다.
'ZEISS LaserSEM'의 제품 특징은 다음과 같다.
제품 특징
•EDS & EBSD 분석이 가능한 대면적 표면 처리.
•독립된 chamber에서 Laser milling 진행으로 오염을 방지.
•Laser chamber를 고진공 또는 아르곤 가스로 충전 상태로 유지하여 샘플 처리 가능.
•XRM 설비와 연계된 분석 워크플로우 사용으로 샘플에 분석의 정확도와 과정을 가속화.
•Ga-Ion FIB column 추가로 LaserFIB로의 활용도 확장 가능.
'ZEISS LaserSEM'에 대한 상세한 내용 Reference(참고자료)를 통하여 확인할 수 있다.
Reference(참고자료)
ZEISS LaserSEM,
자이스 코리아 홈페이지(www.zeiss.co.kr)
Maker(제조사): ZEISS
Country of Origin(원산지): Germany
Data Services(자료제공): 자이스 코리아
<이 기사는 사이언스21 매거진 2024년 10월호에 게재 되었습니다.>
대면적 또는 미세 표면 재료를 종합적으로 분석하려는 연구원에게 필요한 것은 큰 사이즈부터 나노 크기에 이르기까지 2D와 3D 차원을 모두 포괄할 수 있는 이미징 도구와 분석 도구이다. 정교해진 F/S Laser를 이용하여 큰 단면의 EDS 또는 EBSD분석도 별도의 가공 없이 진행 가능하다. 하나의 설비에서 고해상도 이미지를 얻을 수 있고, Chamber의 오염없이 넓은 영역의 가공을 빠른 시간안에 진행하여 다음 분석을 위한 샘플의 준비를 마칠 수 있다. 또한 두 챔버간 샘플 셔틀이 원활하게 이루어지도록 자동화시스템을 도입하여 높은 반복성과 처리량이 요구되는 공정을 지원 가능하다. 대기 비개방 솔루션을 지원하여 Glove Box와 연계한 분석에도 활용 가능하다.'ZEISS LaserSEM'의 제품 특징은 다음과 같다.제품 특징•EDS & EBSD 분석이 가능한 대면적 표면 처리.•독립된 chamber에서 Laser milling 진행으로 오염을 방지.•Laser chamber를 고진공 또는 아르곤 가스로 충전 상태로 유지하여 샘플 처리 가능.•XRM 설비와 연계된 분석 워크플로우 사용으로 샘플에 분석의 정확도와 과정을 가속화.•Ga-Ion FIB column 추가로 LaserFIB로의 활용도 확장 가능.'ZEISS LaserSEM'에 대한 상세한 내용 Reference(참고자료)를 통하여 확인할 수 있다.Reference(참고자료)ZEISS LaserSEM,자이스 코리아 홈페이지(www.zeiss.co.kr)Maker(제조사): ZEISSCountry of Origin(원산지): GermanyData Services(자료제공): 자이스 코리아<이 기사는 사이언스21 매거진 2024년 10월호에 게재 되었습니다.>